노광공정은 웨이퍼 산화막 위에 감광제를 도포하고 마스크를 통해 빛(DUV 또는 EUV)을 통과시켜 회로도를 세기는 공정이다. 노광공정에서 중요한 역할을 하는 우리나라 기업들에 대해 알아보자
동진쎄미켐
발포제 사업으로 시작한 동진세미켐은 반도체, 디스플레이 전자 재료 시장에 진출해 자리매김한 국내 대표 소재 기업이다. 1989년 국내에서는 최초, 세계적으로는 네 번째로 감광제 개발에 성공했다. 3D 낸드플래시에 쓰이는 불화크립톤 감광제 분야에서 세계 1위를 차지하고 있으며 일본의 수출규제 이후 반도체 소부장 국산화 열풍이 부는 시기에 불화아르곤, 불화아르곤이머전, EUV 감광제 국산화에 성공했다.
최근 신성장 동력 확보의 일환으로 2차전지 실리콘 첨가제 개발에 성공해 유럽의 노스볼트에 공급할 계획이나 그 시기가 불투명하다. 반도체 제조에서 EUV 공정이 확대되는 만큼 실적 성장은 꾸준하리라 생각되나 소액주주의 가치 보호를 위해 노력하는 회사는 아니라는 이미지가 강한 회사이니 만큼 투자할 때 그 점도 참고해야 한다.
에스앤에스텍
반도체와 디스플레이용 블랭크 마스크를 개발하여 공급하는 기업으로 블랭크 마스크는 노광공정용 포토마스크를 만드는 원재료다. 석영 기판, 금속 박막, 레지스트 막으로 구성되는데 포토마스크는 블랭크 마스크를 이용해 노광, 식각, 감광제 제거 과정을 거쳐 만들어진다. 에스앤에스텍은 삼성전자향 시스템 반도체용 블랭크 마스크와 삼성디스플레이 OLED용 블랭크 마스크를 납품하고자 노력하고 있다.
EUV용 펠리클은 에스엔에스텍의 신성장 동력인데 EUV펠리클을 납품하기 위해서는 즉 상용화를 위해서는 90%이상의 빛 투과율을 달성해야 하고 10000시간 이상 쓸 수 있는 내구성도 갖추어야 한다. EUV 공정이 늘어날수록 펠리클 수요도 급증할 것으로 기대되는데 에스앤에스텍은 EUV 펠리클을 양산하기 위해 대구 공장에 클린룸을 증설했으며 2022년 3월에 용인 신공장 증설 계획을 발표하기도 했다.
EUV 펠리클
노광공정에서 아주 작은 입자가 있더라도 수율에 문제가 생기므로 파티클이 들어가는 것을 방지하고 마스크를 오래 쓰기 위해서는 펠리클이 필요하다. EUV는 모든 물질에 흡수되는 특성을 가지고 있어 공기에도 흡수된다. 따라서 공기 중이나 마스크에 먼지 하나라도 있으면 원하는 모양의 패턴을 새기는데 문제가 발생하는데 이러한 문제는 마스크 위에 펠리클을 씌우면 해결가능하다.
물론 마스크 자체에 파티클이 묻으면 세정을 해서 해결할 수 있지만, 몇 번의 세정을 거치면 마스크가 손상되므로 마스크를 사용하지 못하게 된다. 하지만 마스크위에 펠리클을 씌우면 펠리클에 먼지가 묻는 경우 펠리클을 세정하거나 펠리클을 버리면 된다. 펠리클은 약 2주 정도의 사용기간을 가지며 가격면에서도 마스크의 약 20% 정도이므로 원가 절감을 위해서는 펠리클 사용이 필수적이라 할 수 있다.
에프에스티
반도체와 디스플레이의 펠리클 및 칠러를 공급하는 업체로 주력 사업은 반도체 칠러 장비이며 매출의 60% 정도를 차지한다. 나머지 40%의 매출은 펠리클 소재에서 나오며 주가 측면에서 주목하는 것은 EUV 펠리클 시장 진출이다. 현재 에프에스티는 실리콘카바이드 소재를 기반으로 제품 개발에 힘쓰고 있으며 탑티어 업체의 퀄테스트를 통과한 것으로 알려지고 있다.
삼성전자에서 요구하는 펠리클의 스펙은 투과율 90%와 500와트에서 견딜 수 있는 내구성인데 에프에스티의 펠리클이 에스앤에스티텍이 개발 중인 펠리클보다 고온에서 내구성이 더 좋다는 평가가 있다.
에프에스티는 펠리클을 위한 프레임, 플라스틱 케이스, 마운트 장비, 파티클 검사 장비에 이르는 수직계열화를 추진중이며 이는 주문업체에게 좋게 어필할 수 있는 장점이라고 생각된다.
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